納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī)

引入了一個(gè)臺(tái)式、獨(dú)立的NanoImprint平臺(tái)。
這個(gè)平臺(tái)提供了一個(gè)帶有微型定位夾具的機(jī)械平臺(tái)，用于安裝納米壓印室、紫外線(xiàn)固化源和校準(zhǔn)顯微鏡。

它既可以作為納米壓印系統(tǒng)，也可以作為傳統(tǒng)的掩模校準(zhǔn)器，同時(shí)為整個(gè)壓印過(guò)程提供可編程的自動(dòng)控制。

我們納米壓印系統(tǒng)-光刻機(jī)的優(yōu)勢(shì)
•低于10納米分辨率，99%的產(chǎn)量
•支持硬模具和軟模具
•可變模具和基板尺寸提供的便利性和靈活性
•自動(dòng)釋放工藝可防止分離過(guò)程中的模具/基板損壞，并最大限度地提高每個(gè)印記的產(chǎn)量。
•自動(dòng)釋放工藝可防止分離過(guò)程中的模具/基板損壞，并最大限度地提高每個(gè)印記的產(chǎn)量。
•適用于各種應(yīng)用的多功能流程：
•光學(xué)設(shè)備、顯示器、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、生物醫(yī)學(xué)
•器件、半導(dǎo)體集成電路、化學(xué)合成和先進(jìn)材料
•帶觸摸屏用戶(hù)界面的可編程PLC允許通過(guò)定制參數(shù)進(jìn)行過(guò)程控制
•專(zhuān)有的紫外固化納米壓印膠對(duì)硬度或厚度沒(méi)有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容。